튜브전기로 패키지 (Tube Furnace Package)
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1200℃ 튜브전기로 패키지(CVD,annealing) FU-PK-G1-S (300mm Ø50)- 8,727,000원
- Chemical Vapor Deposition (CVD, 화학기상증착) 공정용 전기로, annealing(소둔)용 전기로, Gas Flow package+이동형Frame + chiller + 진공펌프로 완변한 구성
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1200℃ 튜브전기로 패키지(CVD,annealing) FU-PK-G2-S (300mm Ø80)- 9,969,000원
- Chemical Vapor Deposition (CVD, 화학기상증착) 공정용 전기로, annealing(소둔)용 전기로, Gas Flow package+이동형Frame + chiller + 진공펌프로 완변한 구성
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1200℃ 튜브전기로 패키지(CVD,annealing) FU-PK-G3-S (300mm Ø100)- 11,369,000원
- Chemical Vapor Deposition (CVD, 화학기상증착) 공정용 전기로, annealing(소둔)용 전기로, Gas Flow package+이동형Frame + chiller + 진공펌프로 완변한 구성
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1200℃ 튜브전기로 패키지(CVD,annealing) FU-PK-G4-S (300mm Ø120)- 13,257,000원
- Chemical Vapor Deposition (CVD, 화학기상증착) 공정용 전기로, annealing(소둔)용 전기로, Gas Flow package+이동형Frame + chiller + 진공펌프로 완변한 구성
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1200℃ 튜브전기로 패키지(CVD,annealing) FU-PK-G1-L (600mm Ø50)- 9,950,000원
- Chemical Vapor Deposition (CVD, 화학기상증착) 공정용 전기로, annealing(소둔)용 전기로, Gas Flow package+이동형Frame + chiller + 진공펌프로 완변한 구성
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1200℃ 튜브전기로 패키지(CVD,annealing) FU-PK-G2-L (600mm Ø80)- 11,454,000원
- Chemical Vapor Deposition (CVD, 화학기상증착) 공정용 전기로, annealing(소둔)용 전기로, Gas Flow package+이동형Frame + chiller + 진공펌프로 완변한 구성
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1200℃ 튜브전기로 패키지(CVD,annealing) FU-PK-G3-L (600mm Ø100)- 13,027,000원
- Chemical Vapor Deposition (CVD, 화학기상증착) 공정용 전기로, annealing(소둔)용 전기로, Gas Flow package+이동형Frame + chiller + 진공펌프로 완변한 구성
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1200℃ 튜브전기로 패키지(CVD,annealing) FU-PK-G4-L (600mm Ø120)- 14,375,000원
- Chemical Vapor Deposition (CVD, 화학기상증착) 공정용 전기로, annealing(소둔)용 전기로, Gas Flow package+이동형Frame + chiller + 진공펌프로 완변한 구성
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1500℃ 튜브전기로 패키지(CVD,annealing) FU-PK-H1 (300mm Ø50)- 13,756,950원
- Chemical Vapor Deposition (CVD, 화학기상증착) 공정용 전기로, annealing(소둔)용 전기로, Gas Flow package+이동형Frame + chiller + 진공펌프로 완변한 구성
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1500℃ 튜브전기로 패키지(CVD,annealing) FU-PK-H2 (300mm Ø80)- 15,324,450원
- Chemical Vapor Deposition (CVD, 화학기상증착) 공정용 전기로, annealing(소둔)용 전기로, Gas Flow package+이동형Frame + chiller + 진공펌프로 완변한 구성
